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佳能:將繼續擴充半導體光刻機產品陣容

類別:名企新聞  出處:電子信息產業網  發布于:2020-01-17 10:23:15 | 1858 次閱讀

  佳能于1970年發售了日本首臺半導體光刻機「PPC-1」,今年是佳能正式投入半導體光刻機領域50周年。半導體器件被廣泛應用于從智能手機到汽車等各個領域,在其制造過程中半導體光刻機必不可少。隨著數字技術的迅速發展,佳能的半導體光刻機也在不斷升級。

  佳能光刻機的歷史始于對相機鏡頭技術的高度應用。靈活運用20世紀60年代中期在相機鏡頭開發中積累的技術,佳能研發出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后,為了進一步擴大業務范圍,佳能開始了半導體光刻機的研發,并于1970年成功發售日本首臺半導體光刻機「PPC-1」,正式進入半導體光刻機領域。

  佳能于1975年發售的「FPA-141F」光刻機在世界上首次實現了1微米以下的曝光,此項技術作為"重要科學技術歷史資料(未來技術遺產)",于2010年被日本國立科學博物館產業技術歷史資料信息中心收錄。

  目前佳能的光刻機陣容包括i線光刻機和KrF光刻機產品線,并根據時代的需求在不斷擴大應用范圍。佳能表示,今后,佳能將繼續擴充半導體光刻機的產品陣容和可選功能,以支持各種尺寸和材料的晶圓以及下一代封裝工藝。此外,在尖端領域為滿足電路圖案進一步微細化的需求,佳能也在致力于推進納米壓印半導體制造設備的研發,并使之能應用于大規模生產。

  據悉,自1986年起,佳能將半導體光刻機技術應用于平板顯示器制造領域,開始開發、制造和銷售平板顯示曝光設備。今后佳能也將繼續致力于提高清晰度和生產效率,以滿足液晶和OLED顯示設備制造的需求。


關鍵詞:半導體光刻機

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